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产品介绍

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1/2/3/4/5/6/8/12英寸单抛硅片双抛硅片氧化硅片

氧化硅片

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到目前为止，我们有多家公司，多所高校、科研所的长期客户。包括：TCL集团股份有限公司，京东方科技集团股份有限公司，深圳市华星光电技术有限公司，武汉华星光电半导体显示技术有限公司，应用材料（中国）有限公司，鹏翔飞控作动系统（西安）有限责任公司，广东美的制冷设备有限公司，马鞍山太时芯科技有限公司，山东科芯电子有限公司，湖南湘标新材料科技有限公司，北京嘉仕涛科技有限公司，苏州甫一电子科技有限公司，营口尚能光电材料有限公司，上海东贝真空设备有限公司，北京世纪金光半导体有限公司，杭州纤纳光电科技有限公司，苏州爱彼光电材料有限公司，江西冠能光电材料有限公司，福建中科芯光电科技有限公司，苏州原位芯片科技有限公司，洛阳市鼎晶电子材料有限公司，深圳市化试科技有限公司，清华大学，上海交通大学，哈尔滨工业大学，西安交通大学，中山大学，华中科技大学，厦门大学，北京航空航天大学，吉林大学，北京工业大学，苏州大学，上海科技大学，黑龙江大学，中北大学等众多的公司、高校和科研所。 如果有其他产品需要重新设计，请联系张生，手机号码18948798140，我们竭诚为您服务。<img src="http://prof55eea.pic48.websiteonline.cn/upload/20200214_085712_001.jpg" width="750" height="750" style=""/><img src="http://prof55eea.pic48.websiteonline.cn/upload/20200214_085712_000.jpg" width="750" height="750" style=""/><img src="http://prof55eea.pic48.websiteonline.cn/upload/TB2BFX3XljTBKNjSZFNXXasFXXa_!!3086514896.jpg" width="750" height="750" style=""/>
1 2 3 4 6 8英寸二氧化硅片

氧化硅片

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热氧化物表面形成二氧化硅层。在氧化剂的存在下在升高的温度下，给过程称为热氧化。通常生长热氧化层的在水平管式炉中。温度范围控制在900到1200摄氏度，使用湿法或者干法的生长方法。热氧化物是一种生长的氧化物层。相对于CVD法沉积的氧化物层，它具有较高的均匀性和更高的介电强度。这是一个极好的作为绝缘体的介电层。大多数硅为基础的设备中，热氧化层都扮演着非常重要的角色，以保护硅片。作为掺杂障碍和表面电介质。 可根据客户科研和实际需要定制加工发货！ 二氧化硅片，氧化硅层厚度一般是300nm，特殊厚度需要定制，请周知！型号：掺杂类型 N/P磷、砷、硼  晶向：<111><100><110>  电阻率：0.001-20000(Ω·cm) 平整度STIR：<1μm 翘曲度TTV：<3μm 弯曲的BOW：<5μm 粗糙度Ra：<0.5nm 颗粒度pewaferr：<10颗 (forsize>0.3μm) 包装方式：1片包装、5片包装、10片封装、25片封装超洁净无尘铝箔真空封装； 现有库存厚度μm：双抛200-2000μm、单抛150-5000μm之间各种厚度硅片均可提供。 用途介绍：用于高校、科研所、高科技公司实验室用于同步辐射样品载体、PVD/CVD镀膜做衬底、磁控溅射生长样品、XRD、SEM、原子力、红外光谱、荧光光谱等分析测试基底、分子束外延生长的基底、X射线分析晶体、TFT薄膜晶体管基底、纳米压印衬底，二维材料衬底等。<img src="http://prof55eea.pic48.websiteonline.cn/upload/TB2BFX3XljTBKNjSZFNXXasFXXa_!!3086514896.jpg" width="750" height="750"/>

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