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热氧化离子注入镀膜沉积刻蚀晶圆键合CMP快速退火

光刻/离子注入/ 镀膜/刻蚀等科研代加工

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<p><span style="font-size: 18px; color: rgb(0, 0, 0);">光刻技术--Lithography Technology光刻一种精密的微细加工技术。常规光刻技术是采用紫外光作为图像信息载体，以光致抗光刻技术蚀剂为中间（图像记录）媒介实现图形的变换、转移和处理，最终把图像信息传递到晶片(主要指硅片)或介质层上的一种工艺。</span></p><p><span style="font-size: 18px; color: rgb(0, 0, 0);"> </span></p><p><span style="font-size: 18px; color: rgb(0, 0, 0);">公司提供电子束光刻、步进式光刻、接触式光刻等光刻技术，线宽最小可达10nm，多种光刻结合的先进光刻理念，实现您不同尺寸的光刻需求。</span></p><p><span style="font-size: 18px; color: rgb(0, 0, 0);">电子束光刻：最小线宽50nm（成熟），适合在导电衬底、图形面积小的图形加工。　</span></p><p><span style="font-size: 18px; color: rgb(0, 0, 0);">投影式光刻：stepper i7/i10/i12，最小线宽350nm，适合在标准圆片上有量加工。　</span></p><p><span style="font-size: 18px; color: rgb(0, 0, 0);">接触、接近式光刻：MA6/BA6光刻机，最小线宽1um，适合正反套刻，衬底包容性高。</span></p><p><span style="font-size: 18px; color: rgb(0, 0, 0);"> </span></p><p><span style="font-size: 18px; color: rgb(0, 0, 0);">此产品属于定制产品，可根据客户需求来定制，如果需要设计，请联系我们客服或者联系张生，手机号码18948798140，我们竭诚为您服务！ </span></p><p><img src="http://prof55eea.pic48.websiteonline.cn/upload/p11f.jpg" width="750" height="750" style=""/></p><p><img src="http://prof55eea.pic48.websiteonline.cn/upload/dd11.jpg" width="750" height="750" style=""/></p><p><span style="font-size: 18px; color: rgb(0, 0, 0);"></span><br/></p><p><br/></p>

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